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Negativer Fotolack

Negative Fotolackmaterialien, geeignet für hochauflösende Musterübertragung

    Produktübersicht

    Im belichteten Bereich findet eine Vernetzungsreaktion statt, die im Entwickler unlöslich ist und ein Negativbild erzeugt. Das Material weist eine gute Ätz- und Galvanisierungsbeständigkeit auf und findet breite Anwendung in der Herstellung von integrierten Schaltungen, fortschrittlichen Gehäusen und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS).

    Kernfunktionen

    - Hohe Empfindlichkeit

    - Hervorragende Linienbreitensteuerung

    - Gute Haftung

    - Geringe Defektdichte

    Anwendungsgebiete

    - Halbleiterverpackung

    - MEMS-Bauteil

    - Fortschrittliche Verpackung

    - Wafer-Level-Verpackung

    Produktbilder

    Negative photoresist (English version).jpg

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