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正性光刻胶

产品概述

专为精细图形而设计,曝光区域可溶于显影液,因此适用于各种需要高精度图形的场景。

 

    产品概述

    专为精细图形而设计,曝光区域可溶于显影液,因此适用于各种需要高精度图形的场景。

    核心功能
    - 高分辨率(≤1.5 μm)

    - 优异的粘合力

    - 有利的工艺窗口

    - 低颗粒污染

    - 出色的稳定性

    应用领域

    半导体封装

    微电子制造

    - 微机电系统器件

    光电器件


    产品图片

    正性光刻胶(英文版).jpg

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