紫外负性光刻胶

ST-PR201系列

• 负化学放大膜
  ◎ 高纵横比、高垂直度、高透明度
  ◎ 高化学稳定性和优异的耐温性
  ◎ 可用作钝化层或保护层
  ◎ 适用于微机电系统（MEMS）制造、微流控、生物芯片和光电器件
  ◎ 一种适用于制造各种人体结构和进行LIGA工艺的优良材料
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ST-PR20M系列

• ◎ 优异的抗蚀刻性能
  ◎ 适用于PVD和剥离工艺
  ◎ 化学稳定性优异，适用于电镀工艺
  ◎ 热稳定性
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